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四級液氮制冷大氣預濃縮儀

四級液氮制冷大氣預濃縮儀

更新時間:2024-10-31

產(chǎn)品型號:Ontech880

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品報價:

產(chǎn)品特點:Ontech880四級液氮制冷大氣預濃縮儀是昂泰克科技在傳統(tǒng)三級冷阱基礎(chǔ)上全新推出的四級液氮制冷預濃縮儀。采用四級濃縮技術(shù)輔以液氮深度冷凍捕集,突破了傳統(tǒng)三級冷阱技術(shù)高沸點化合物在除水阱冷凝丟失的弊端,帶來了更強的除水效果和工作效率,可搭配任何款式的GC或GC-MS,檢測環(huán)境空氣中的揮發(fā)性有機化合物。

產(chǎn)品詳情

Ontech880 四級液氮制冷大氣預濃縮儀

【符合標準】

1、《HJ759-2023環(huán)境空氣 65 種揮發(fā)性有機物的測定罐采樣/氣相色譜-質(zhì)譜法》

2、《HJ1078-2019固定污染源廢氣 甲硫醇等8種含硫有機化合物的測定氣袋采樣-預濃縮/氣相色譜-質(zhì)譜法》

3、《2019年地級及以上城市環(huán)境空氣揮發(fā)性有機物監(jiān)測方案》


【產(chǎn)品描述】

Ontech880四級液氮制冷大氣預濃縮儀是昂泰克科技在傳統(tǒng)三級冷阱基礎(chǔ)上全新推出的四級液氮制冷預濃縮儀。采用四級濃縮技術(shù)輔以液氮深度冷凍捕集,突破了傳統(tǒng)三級冷阱技術(shù)高沸點化合物在除水阱冷凝丟失的弊端,帶來了更強的除水效果和工作效率,可搭配任何款式的GC或GC-MS,檢測環(huán)境空氣中的揮發(fā)性有機化合物。


【解決問題】

傳統(tǒng)三級冷阱預濃縮采用低溫物理除水技術(shù),在除水的同時,不可避免的將高沸點化合物與水一同冷凝于除水阱中,而為達到較好的除水效果,除水阱無法在不排出水的情況下將高沸點化合物回收,因此除水效果與高沸點化合物的回收就成為了三級冷阱技術(shù)最大的矛盾點。


【軟件特點】

1、工作流程化繁為簡,工作效率提升;

2、新一代控制軟件,操作簡單,功能強大,特別對于缺少預濃縮使用經(jīng)驗的用戶,易于使用;

3、高精度MFC電子計量,技術(shù)成熟可靠,科學算法可很好地避免普通MFC啟動時存在的流量不準難題,無需真空罐,使用便捷、靈活;

4、方法編輯功能強大靈活,運行時間流程全程自定義,可針對不同樣品和分析需求;

5、數(shù)據(jù)記錄、導出功能完善,支持各項備注;

6、可搭配任何款式的GC或GC-MS。


【硬件特點】

1、四級冷阱分離式捕集技術(shù)可將除水與VOCs回收分離,很好地避免了高沸點化合物在除水阱中的吸附損失,真正做到高沸點無損進樣。得益于該技術(shù)特點,同比傳統(tǒng)三級冷阱,其高沸點化合物響應提升170%(萘);

2、創(chuàng)新打破常規(guī),除水阱深冷除水后無須二次加熱,帶來了良好的除水、除雜效率,同比傳統(tǒng)三級冷阱,除水、除雜能力提升46%;

3、工作流程化繁為簡,全面節(jié)省樣品分析周期,分析效率提升20%,不到10分鐘即可完成標準400ml TO15化合物洗脫。同時還能有效節(jié)省制冷劑,相同的液氮,更多的樣品分析量;

4、設(shè)置獨立聚焦冷阱,確保了化合物的聚焦效果,全面支持高壓進樣技術(shù),使得峰形更為尖銳,支持分流、不分流、定量環(huán)等多種進樣方式,全面應對各種高低濃度樣品,可適應的濃度范圍橫跨ppt至ppm級,真正做到一機通用;

5、高速氣化,升溫速率達到2000°C/分鐘,搭配發(fā)明解析技術(shù),使得化合物分離的同時峰型變窄變高。

6、創(chuàng)新集成內(nèi)置進樣器具有13個進樣口(可不選配內(nèi)置進樣器,為3個進樣口);還可搭配外置自動進樣器使用,增加至28個氣路,可接蘇瑪罐或氣袋實現(xiàn)批量樣品的自動進樣功能;

7、可靠的結(jié)構(gòu)設(shè)計:樣品管路全惰性化處理,從樣品接頭到內(nèi)部電磁閥閥體全程高溫加熱,真正做到樣品全程伴熱,無冷點無吸附。


【技術(shù)參數(shù)】

靈敏度和濃縮范圍

◎ 濃縮比率:>1000:1;

◎ 檢測下限:0.1ppbv;

◎ 重現(xiàn)性RSD:≤3%(90%以上的化合物)。

進樣口

◎ 獨立的內(nèi)標和標氣進樣口,配置13個附加進樣口;

◎ 可選配自動進樣器(16個進樣口)。

樣品處理能力

◎ 所有管線均為硅烷化不銹鋼材質(zhì);

◎ 進樣范圍:4-2000ml(0-100%相對濕度),4ml以下支持定量環(huán)進樣;

◎ MFC流量范圍:5-200ml/min,度±2%(標準配置);

◎ 溫控度±2℃,最大升溫速率360℃/min(聚焦阱大于2000℃/min)。



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